Jeftini cjenik za specijalne plinove Kina opskrba elektronima/poluvodičkim razredom čistoće 99,999% ugljik tetrafluorid/tetrafluorometan CF4 cijena plina

“Iskrenost, inovativnost, strogost i efikasnost” može biti uporna koncepcija naše organizacije na dugi rok da se uspostavi zajedno sa kupcima radi uzajamnog reciprociteta i obostrane dobiti za Jeftini cjenovnik za specijalne plinove Kina Snabdijevanje elektronima/poluprovodnicima Kvaliteta 99,999% čistoće ugljika Tetrafluorid/Tetrafluoromethane CF4 Gas Price, Budući da smo mlada kompanija koja raste, možda nismo najefikasniji, ali trudimo se maksimalno da generalno budemo vaš fantastičan partner.
„Iskrenost, inovativnost, rigoroznost i efikasnost“ može biti uporna koncepcija naše organizacije na dugi rok da se uspostavi zajedno sa kupcima radi obostranog reciprociteta i obostrane dobiti zaKina CF4 i CF4 Gas, “Stvorite vrijednosti, služeći klijentima!” je cilj koji težimo. Iskreno se nadamo da će svi kupci uspostaviti dugoročnu i obostrano korisnu saradnju sa nama. Ukoliko želite da dobijete više detalja o našoj kompaniji, obavezno nas kontaktirajte odmah!

Tehnički parametri

Ugljentetrafluorid je halogenizovani ugljovodonik sa hemijskom formulom CF4. Može se smatrati halogeniranim ugljovodonikom, halogeniranim metanom, perfluorougljikom ili kao neorgansko jedinjenje. Ugljen-tetrafluorid je gas bez boje i mirisa, nerastvorljiv u vodi, rastvorljiv u benzenu i hloroformu. Stabilan pod normalnom temperaturom i pritiskom, izbjegavajte jake oksidanse, zapaljive ili zapaljive materijale. Negorivi gas, unutrašnji pritisak posude će se povećati kada je izložen visokoj toploti, a postoji opasnost od pucanja i eksplozije. Hemijski je stabilan i nezapaljiv. Samo tečni amonijak-natrijum metalni reagens može raditi na sobnoj temperaturi. Ugljen-tetrafluorid je gas koji izaziva efekat staklene bašte. Veoma je stabilan, može dugo da ostane u atmosferi i veoma je moćan gas staklene bašte. Ugljični tetrafluorid se koristi u procesu plazma jetkanja različitih integriranih kola. Takođe se koristi kao laserski gas, a koristi se u rashladnim sredstvima za niske temperature, rastvaračima, mazivima, izolacionim materijalima i rashladnim tečnostima za infracrvene detektore. To je najčešće korišteni plin za jetkanje plazme u mikroelektronskoj industriji. To je mješavina tetrafluorometana visoke čistoće i plina tetrafluorometana visoke čistoće i kisika visoke čistoće. Može se široko koristiti u silicijumu, silicijum dioksidu, silicijum nitridu i fosfosilikatnom staklu. Jetkanje tankoslojnih materijala kao što su volfram i volfram takođe se široko koristi u čišćenju površina elektronskih uređaja, proizvodnji solarnih ćelija, laserskoj tehnologiji, niskotemperaturnom hlađenju, kontroli curenja i deterdžentu u proizvodnji štampanih kola. Koristi se kao niskotemperaturno rashladno sredstvo i tehnologija suvog nagrizanja plazmom za integrisana kola. Mere opreza za skladištenje: Čuvati u hladnom, provetrenom skladištu nezapaljivog gasa. Čuvati dalje od vatre i izvora toplote. Temperatura skladištenja ne bi trebalo da prelazi 30°C. Treba ga skladištiti odvojeno od lako (zapaljivih) zapaljivih materija i oksidansa i izbjegavati miješano skladištenje. Prostor za skladištenje treba da bude opremljen opremom za hitne slučajeve curenja.

primjena:

① Rashladno sredstvo:

Tetrafluorometan se ponekad koristi kao rashladno sredstvo niske temperature.

② Graviranje:

Koristi se u mikroproizvodnji elektronike sam ili u kombinaciji s kisikom kao sredstvo za jetkanje u plazmi za silicijum, silicijum dioksid i silicijum nitrid.

Normalan paket:

prednost:

①Visoka čistoća, najnoviji objekat;

② Proizvođač ISO sertifikata;

③Brza dostava;

④On-line sistem analize za kontrolu kvaliteta u svakom koraku;

⑤ Visoki zahtjevi i pedantan proces za rukovanje cilindrom prije punjenja;