Hlorovodonik (HCl)

Tehnički parametri:

Hlorovodonik ima hemijsku formulu HCl.Molekula klorovodika sastoji se od atoma klora i atoma vodika.To je bezbojni plin oštrog mirisa.Korozivan, nezapaljiv gas, ne reaguje sa vodom, ali je lako rastvorljiv u vodi.Često je prisutan u zraku u obliku para hlorovodonične kiseline.Hlorovodonik je lako rastvorljiv u etanolu i eteru, a takođe je rastvorljiv u mnogim drugim organskim supstancama;vrlo lako rastvorljiv u vodi, na 0°C, 1 zapremina vode može rastvoriti približno 500 zapremina hlorovodonika.Njegov vodeni rastvor je opšte poznat kao hlorovodonična kiselina, a njen naučni naziv je hlorovodonična kiselina.Koncentrirana hlorovodonična kiselina je hlapljiva.Hlorovodonik je bezbojan, sa tačkom topljenja od -114,2°C i tačkom ključanja od -85°C.Ne gori na zraku i termički je stabilan.Ne raspada se do oko 1500°C.Ima zagušljiv miris, ima jaku iritaciju gornjih disajnih puteva i korozivno djeluje na oči, kožu i sluzokože.Gustina je veća od vazduha.Hemijska svojstva suvog hlorovodonika su vrlo neaktivna.Alkalni i zemnoalkalni metali mogu izgorjeti u hlorovodoniku, a kada natrijum gori, emituje jarko žuti plamen.Hlorovodonik se koristi u petrohemijskoj industriji za unapređenje efikasnosti i regeneracije katalizatora i povećanje viskoziteta nafte;može se koristiti za proizvodnju klorosulfonske kiseline, sintetičke gume, itd.;također se može koristiti za proizvodnju boja, mirisa, sinteze lijekova, raznih klorida i inhibitora korozije, te čišćenje, kiseljenje, galvanizacija metala, štavljenje, rafiniranje ili proizvodnja tvrdog metala.Plin hlorovodonik visoke čistoće se široko koristi u procesima epitaksijalnog rasta silicijuma, poliranja u parnoj fazi, dobijanja, jetkanja i čišćenja u elektronskoj industriji.

primjena:

①Materijal:

Većina hlorovodonika se koristi u proizvodnji hlorovodonične kiseline.Takođe je važan reagens u drugim industrijskim hemijskim transformacijama.

②Poluprovodnik:

U industriji poluvodiča koristi se i za jetkanje poluvodičkih kristala i za pročišćavanje silicija preko triklorosilana (SiHCl3).

③Laboratorija:

U laboratoriji su bezvodni oblici plina posebno korisni za stvaranje Lewisovih kiselina na bazi klorida, koje moraju biti apsolutno suhe da bi njihova Lewisova mjesta funkcionirala.

Normalan paket:

Prednosti:

①Visoka čistoća, najnoviji objekat;

② Proizvođač ISO sertifikata;

③Brza dostava;

④On-line sistem analize za kontrolu kvaliteta u svakom koraku;

⑤ Visoki zahtjevi i pedantan proces za rukovanje cilindrom prije punjenja;