Hlorid vodonika (HCl)

Tehnički parametri:

Hlorovodik ima hemijsku formulu HCl. Molekul hlorovodonika sastoji se od atoma hlora i atoma vodonika. To je bezbojni gas oštrog mirisa. Korozivan, nezapaljiv gas, ne reaguje s vodom, ali je lako rastvorljiv u vodi. Često je prisutan u vazduhu u obliku para hlorovodonične kiseline. Hlorovodik je lako rastvorljiv u etanolu i eteru, a takođe je rastvorljiv i u mnogim drugim organskim supstancama; vrlo lako rastvorljiv u vodi, na 0°C, 1 zapremina vode može rastvoriti približno 500 zapremina hlorovodonika. Njegov vodeni rastvor je obično poznat kao hlorovodonična kiselina, a naučni naziv mu je hlorovodonična kiselina. Koncentrovana hlorovodonična kiselina je isparljiva. Hlorovodik je bezbojan, sa tačkom topljenja od -114,2°C i tačkom ključanja od -85°C. Ne gori na vazduhu i termički je stabilan. Ne raspada se do oko 1500°C. Ima zagušljiv miris, jaku iritaciju gornjih disajnih puteva i korozivan je za oči, kožu i sluzokože. Gustina je veća od vazduha. Hemijska svojstva suhog hlorovodonika su vrlo neaktivna. Alkalni metali i zemnoalkalni metali mogu gorjeti u hlorovodoniku, a kada natrijum gori, on emituje jarko žuti plamen. Hlorovodik se koristi u petrohemijskoj industriji za poboljšanje efikasnosti i regeneracije katalizatora i povećanje viskoznosti nafte; može se koristiti za proizvodnju hlorosulfonske kiseline, sintetičke gume itd.; može se koristiti i za izradu boja, mirisa, sintezu lijekova, raznih hlorida i inhibitora korozije, te za čišćenje, kiseljenje, galvanizaciju metala, štavljenje, rafiniranje ili proizvodnju tvrdih metala. Visokočisti gasoviti hlorovodik se široko koristi u epitaksijalnom rastu silicija, poliranju u parnoj fazi, getiranju, nagrizanju i čišćenju u elektronskoj industriji.

Primjena:

①Materijal:

Većina hlorovodonika se koristi u proizvodnji hlorovodonične kiseline. Takođe je važan reagens u drugim industrijskim hemijskim transformacijama.

②Poluprovodnik:

U industriji poluprovodnika, koristi se za nagrizanje poluprovodničkih kristala i za prečišćavanje silicija putem trihlorosilana (SiHCl3).

③Laboratorija:

U laboratoriji, bezvodni oblici plina su posebno korisni za generiranje Lewisovih kiselina na bazi klorida, koje moraju biti apsolutno suhe da bi njihova Lewisova mjesta funkcionirala.

Uobičajeni paket:

Prednosti:

①Visoka čistoća, najsavremeniji objekat;

②Proizvođač sa ISO certifikatom;

③Brza dostava;

④Online sistem analize za kontrolu kvaliteta u svakom koraku;

⑤Visoki zahtjevi i pedantan proces rukovanja cilindrom prije punjenja;