Hlorovodonik (HCl)

Tehnički parametri:

Hlorovodonik ima hemijsku formulu HCl. Molekula klorovodika sastoji se od atoma klora i atoma vodika. To je bezbojni plin oštrog mirisa. Korozivan, nezapaljiv gas, ne reaguje sa vodom, ali je lako rastvorljiv u vodi. Često je prisutan u zraku u obliku para hlorovodonične kiseline. Hlorovodonik je lako rastvorljiv u etanolu i eteru, a takođe je rastvorljiv u mnogim drugim organskim supstancama; vrlo lako rastvorljiv u vodi, na 0°C, 1 zapremina vode može rastvoriti približno 500 zapremina hlorovodonika. Njegov vodeni rastvor je opšte poznat kao hlorovodonična kiselina, a njen naučni naziv je hlorovodonična kiselina. Koncentrirana hlorovodonična kiselina je isparljiva. Hlorovodonik je bezbojan, sa tačkom topljenja od -114,2°C i tačkom ključanja od -85°C. Ne gori na zraku i termički je stabilan. Ne raspada se do oko 1500°C. Zagušljivog je mirisa, ima jaku iritaciju gornjih disajnih puteva i korozivno djeluje na oči, kožu i sluzokože. Gustina je veća od vazduha. Hemijska svojstva suvog hlorovodonika su vrlo neaktivna. Alkalni i zemnoalkalni metali mogu izgorjeti u hlorovodoniku, a kada natrijum gori, emituje jarko žuti plamen. Hlorovodonik se koristi u petrohemijskoj industriji za unapređenje efikasnosti i regeneracije katalizatora i povećanje viskoziteta nafte; može se koristiti za proizvodnju klorosulfonske kiseline, sintetičke gume, itd.; također se može koristiti za proizvodnju boja, mirisa, sinteze lijekova, raznih klorida i inhibitora korozije, te čišćenje, kiseljenje, galvanizacija metala, štavljenje, rafiniranje ili proizvodnja tvrdog metala. Plin hlorovodonika visoke čistoće se široko koristi u procesima epitaksijalnog rasta silicijuma, poliranja u parnoj fazi, dobijanja, jetkanja i čišćenja u elektronskoj industriji.

primjena:

①Materijal:

Većina hlorovodonika se koristi u proizvodnji hlorovodonične kiseline. Takođe je važan reagens u drugim industrijskim hemijskim transformacijama.

②Poluprovodnik:

U industriji poluvodiča koristi se i za jetkanje poluvodičkih kristala i za pročišćavanje silicija preko triklorosilana (SiHCl3).

③Laboratorija:

U laboratoriji, bezvodni oblici plina su posebno korisni za stvaranje Lewisovih kiselina na bazi klorida, koje moraju biti apsolutno suhe da bi njihova Lewisova mjesta funkcionirala.

Normalan paket:

Prednosti:

①Visoka čistoća, najnoviji objekat;

② Proizvođač ISO sertifikata;

③Brza dostava;

④On-line sistem analize za kontrolu kvaliteta u svakom koraku;

⑤ Visoki zahtjevi i pedantan proces za rukovanje cilindrom prije punjenja;