Novo dolazak Kina visoka čistoća CF4 plin za poluvodički industrije

Vjerujemo u: Inovacije je naša duša i duh. Dobar kvalitet je naš život. Kupac mora imati naš Bog za novo dolasku Kinu visokog čistoće CF4 plina za poluvodičke industrije Etching, iskreno dajemo sve od sebe da ponudimo najbolju uslugu za sve klijente i privrednike.
Vjerujemo u: Inovacije je naša duša i duh. Dobar kvalitet je naš život. Kupca treba imati naš Bog zaKina CF4 rashladni gas, Plinski cilindar, Sada je konkurencija u ovom polju vrlo žestoka; Ali mi ćemo i dalje ponuditi najbolju kvalitetu, razumnu cijenu i najziduidniju uslugu u nastojanju da bismo postigli win-win gol. "Promjena za bolje!" je naš slogan, što znači "bolji svijet je pred nama, pa uživamo!" Promjena za bolje! Jeste li spremni?

Tehnički parametri

Carbon Tetrafluoride je halogenirani ugljikovodik sa hemijskim formulom CF4. Može se smatrati halogenim ugljikovodikom, halogeniranim metanima, perfluororbon ili kao anorganski spoj. Carbon Tetrafluoride je bezbojni i bez mirisa, netopljiv u vodi, topljivi u benzenu i hloroforma. Stabilan je u normalnoj temperaturi i pritisku, izbjegavajte jake oksidante, zapaljive ili zapaljive materijale. Nezapaljiv plin, unutarnji pritisak kontejnera povećat će se kada je izložen velikom vrućini, a postoji opasnost od pucanja i eksplozije. Hemijski je stabilan i nezapaljiv. Samo tečni amonijak-natrijum-metalni reagens može raditi na sobnoj temperaturi. Carbon Tetrafluoride je gas koji uzrokuje efekt staklenika. Veoma je stabilan, može dugo ostati u atmosferi i vrlo je moćan staklenički plin. Carbon Tetrafluoride koristi se u procesu etching-a plazme raznih integriranih krugova. Koristi se i kao laserski gas, a koristi se u rashladnim sredstvom, otapalima, mazivima, izolacijskim materijalima i rashladnim sredstvima za infracrvene detektore. To je najčešće korišteni plinski plin u plazmi u industriji mikroelektronike. To je mješavina tetrafluorometana visokog čistoće plina i tetrafluorometana visoko-čistoću plina i visoke kiseonike. Može se široko koristiti u silicijum, silikonskim dioksidom, silikonskim nitridom i fosfosilikatnim staklom. Etching tankih filmskih materijala kao što su volframovi i volframovi također se koristi u površinskom čišćenju elektroničkih uređaja, solarnim ćelijama, laserskim tehnologijom, hladnjakom niskim temperaturama, pregledom propuštanja i deterdženta u proizvodnji tiskanog kruga. Koristi se kao rashladna sredstva za hlađenje niskog temperature i tehnologije za suhu i plazma za integrirane krugove. Predostrožnosti za skladištenje: Čuvati u hladnom, ventiliranom nezapaljivim plinskom skladištu. Držite podalje od vatre i izvora topline. Temperatura skladištenja ne smije prelaziti 30 ° C. Treba ga se pohraniti odvojeno od lako (zapaljivih) zapaljivih i oksidansa i izbjegavajte mješoviti skladištenje. Područje skladištenja treba biti opremljeno opremom za hitnu zaštitu od curenja.

Primjena:

① Rashladno sredstvo:

Tetrafluorometane se ponekad koristi kao rashladno sredstvo niske temperature.

② Etching:

Koristi se u elektroničkoj mikrofabricitaciji ili u kombinaciji sa kisikom kao plazmom etchant za silikon, silikonski dioksid i silikon nitrid.

Normalni paket:

Prednost:

①igh critety, najnoviji objekt;

②iso proizvođač certifikata;

③fast dostava;

Sistem analize ④on za kontrolu kvaliteta u svakom koraku;

⑤ight zahtjev i pažljiv proces za rukovanje cilindrom prije punjenja;Vjerujemo u: Inovacije je naša duša i duh. Dobar kvalitet je naš život. Kupac mora imati naš Bog za novo dolasku Kinu visokog čistoće CF4 plina za poluvodičke industrije Etching, iskreno dajemo sve od sebe da ponudimo najbolju uslugu za sve klijente i privrednike.
Novo dolazakKina CF4 rashladni gas, Plinski cilindar, Sada je konkurencija u ovom polju vrlo žestoka; Ali mi ćemo i dalje ponuditi najbolju kvalitetu, razumnu cijenu i najziduidniju uslugu u nastojanju da bismo postigli win-win gol. "Promjena za bolje!" je naš slogan, što znači "bolji svijet je pred nama, pa uživamo!" Promjena za bolje! Jeste li spremni?