ugljični tetrafluorid (CF4)

Technical Parameters

Ugljentetrafluorid je halogenizovani ugljovodonik sa hemijskom formulom CF4.Može se smatrati halogeniranim ugljovodonikom, halogeniranim metanom, perfluorougljikom ili kao neorgansko jedinjenje.Ugljentetrafluorid je gas bez boje i mirisa, nerastvorljiv u vodi, rastvorljiv u benzenu i hloroformu.Stabilan pod normalnom temperaturom i pritiskom, izbjegavajte jake oksidanse, zapaljive ili zapaljive materijale.Negorivi gas, unutrašnji pritisak posude će se povećati kada je izložen visokoj toploti, a postoji opasnost od pucanja i eksplozije.Hemijski je stabilan i nezapaljiv.Samo tečni amonijak-natrijum metalni reagens može raditi na sobnoj temperaturi.Ugljen-tetrafluorid je gas koji izaziva efekat staklene bašte.Veoma je stabilan, može dugo da ostane u atmosferi i veoma je moćan gas staklene bašte.Ugljični tetrafluorid se koristi u procesu plazma jetkanja različitih integriranih kola.Takođe se koristi kao laserski gas, a koristi se u rashladnim sredstvima za niske temperature, rastvaračima, mazivima, izolacionim materijalima i rashladnim tečnostima za infracrvene detektore.To je najčešće korišteni plin za jetkanje plazme u mikroelektronskoj industriji.To je mješavina tetrafluorometana visoke čistoće i plina tetrafluorometana visoke čistoće i kisika visoke čistoće.Može se široko koristiti u silicijumu, silicijum dioksidu, silicijum nitridu i fosfosilikatnom staklu.Jetkanje tankoslojnih materijala kao što su volfram i volfram takođe se široko koristi u čišćenju površina elektronskih uređaja, proizvodnji solarnih ćelija, laserskoj tehnologiji, niskotemperaturnom hlađenju, kontroli curenja i deterdžentu u proizvodnji štampanih kola.Koristi se kao niskotemperaturno rashladno sredstvo i tehnologija suvog nagrizanja plazme za integrisana kola.Mere opreza za skladištenje: Čuvati u hladnom, provetrenom skladištu nezapaljivog gasa.Čuvati dalje od vatre i izvora toplote.Temperatura skladištenja ne bi trebalo da prelazi 30°C.Treba ga skladištiti odvojeno od lako (zapaljivih) zapaljivih materija i oksidanata i izbjegavati miješano skladištenje.Prostor za skladištenje treba da bude opremljen opremom za hitnu obradu curenja.

primjena:

① Rashladno sredstvo:

Tetrafluorometan se ponekad koristi kao rashladno sredstvo niske temperature.

② Graviranje:

Koristi se u mikroproizvodnji elektronike sam ili u kombinaciji s kisikom kao sredstvo za jetkanje u plazmi za silicijum, silicijum dioksid i silicijum nitrid.

Normalan paket:

prednost:

①Visoka čistoća, najnoviji objekat;

② Proizvođač ISO sertifikata;

③Brza dostava;

④On-line sistem analize za kontrolu kvaliteta u svakom koraku;

⑤ Visoki zahtjevi i pedantan proces za rukovanje cilindrom prije punjenja;