Uobičajeni specijalni elektronski plinovi koji sadrže fluor uključujusumpor heksafluorid (SF6), volfram heksafluorid (WF6),ugljikov tetrafluorid (CF4), trifluorometan (CHF3), dušikov trifluorid (NF3), heksafluoroetan (C2F6) i oktafluoropropan (C3F8).
Razvojem nanotehnologije i velikim razvojem elektronske industrije, potražnja za njim će rasti iz dana u dan. Dušikov trifluorid, kao nezamjenjiv i najčešće korišten specijalni elektronski plin u proizvodnji i obradi panela i poluprovodnika, ima široko tržište.
Kao vrsta specijalnog plina koji sadrži fluor,dušikov trifluorid (NF3)je elektronski specijalni plin s najvećim tržišnim kapacitetom. Hemijski je inertan na sobnoj temperaturi, aktivniji od kisika na visokim temperaturama, stabilniji od fluora i jednostavan za rukovanje. Dušikov trifluorid se uglavnom koristi kao plin za plazma nagrizanje i sredstvo za čišćenje reakcijske komore, te je pogodan za proizvodnju poluprovodničkih čipova, ravnih ekrana, optičkih vlakana, fotonaponskih ćelija itd.
U poređenju sa drugim elektronskim gasovima koji sadrže fluor,dušikov trifluoridIma prednosti brze reakcije i visoke efikasnosti. Posebno kod nagrizanja materijala koji sadrže silicijum, kao što je silicijum nitrid, ima visoku brzinu nagrizanja i selektivnost, ne ostavljajući ostatke na površini nagrizanog predmeta. Također je vrlo dobro sredstvo za čišćenje i ne zagađuje površinu, što može zadovoljiti potrebe procesa obrade.
Vrijeme objave: 14. septembar 2024.
