Uobičajeni specijalni elektronski plinovi koji sadrže fluor uključujusumpor heksafluorid (SF6), volfram heksafluorid (WF6),ugljični tetrafluorid (CF4), trifluorometan (CHF3), azot trifluorid (NF3), heksafluoroetan (C2F6) i oktafluoropropan (C3F8).
Sa razvojem nanotehnologije i velikim razvojem elektronske industrije, njena potražnja će rasti iz dana u dan. Azot trifluorid, kao nezamjenjiv i najkorišteniji specijalni elektronski plin u proizvodnji i preradi panela i poluvodiča, ima širok tržišni prostor.
Kao vrsta specijalnog gasa koji sadrži fluor,dušikov trifluorid (NF3)je elektronski specijalni plinski proizvod s najvećim tržišnim kapacitetom. Hemijski je inertan na sobnoj temperaturi, aktivniji je od kiseonika na visokoj temperaturi, stabilniji od fluora i lak za rukovanje. Dušikov trifluorid se uglavnom koristi kao plin za jetkanje plazme i sredstvo za čišćenje reakcionih komora, a pogodan je za proizvodnju poluvodičkih čipova, ravnih displeja, optičkih vlakana, fotonaponskih ćelija itd.
U poređenju sa drugim elektronskim gasovima koji sadrže fluor,azot trifluoridima prednosti brze reakcije i visoke efikasnosti. Posebno u jetkanju materijala koji sadrže silicijum, kao što je silicijum nitrid, ima visoku stopu jetkanja i selektivnost, ne ostavljajući ostatke na površini ugraviranog predmeta. Takođe je vrlo dobro sredstvo za čišćenje i nema zagađivanja površine, što može zadovoljiti potrebe procesa obrade.
Vrijeme objave: Sep-14-2024
